ASML сообщила, что исследователи увеличили мощность источника EUV-излучения, удвоив частоту подачи капель олова и используя двойные лазерные импульсы

Дорожная карта развития технологий EUV-литографии ASML (с 1985 года по период после 2030 года)

Исследователи ASML увеличили мощность источника EUV-света с 600 ватт до примерно 1 000 ватт, что позволяет значительно увеличить throughput чипов. 

• Увеличение достигается удвоением частоты подачи капель олова (Sn) и использованием двойных лазерных импульсов для преобразования капель в плазму. 

• Это означает, что каждая машина может обрабатывать до ≈330 пластин в час (по сравнению с ≈220 сейчас), что примерно на 50 % больше. 

• Конкурируют с ASML как минимум два американских стартапа (например, проекты с разработкой EUV-источников и литографических инструментов), а также есть государственная программа в Китае, стремящаяся создать собственные EUV-машины — но они пока отстают по уровню и коммерческой пригодности. 

https://finance.yahoo.com/news/exclusive-asml-unveils-euv-light-140237752.html